新聞分類
聯(lián)系我們
- 地 址:福建省福州市銅盤(pán)路軟件園B區(qū)6號(hào)樓
- 電 話:0591-22628762
- 傳 真:0591-22628951
- 郵 編:350001
- 郵 箱:info@fzhokin.com
濺射鍍膜
濺射鍍膜
濺射(sputtering)是PVD薄膜制備技術(shù)的一種,主要分為四大類:直流濺射、交流濺射、反應(yīng)濺射和磁控濺射。
PVD薄膜制備技術(shù):濺射
原理如圖:
原理:用帶電粒子轟擊靶材,加速的離子轟擊固體表面時(shí),發(fā)生表面原子碰撞并發(fā)生能量和動(dòng)量的轉(zhuǎn)移,使靶材原子從表面逸出并淀積在襯底材料上的過(guò)程。以荷能粒子(常用氣體正離子)轟擊某種材料的靶面,而使靶材表面的原子或分子從中逸出的現(xiàn)象,同時(shí)由于濺射過(guò)程含有動(dòng)量的轉(zhuǎn)換,所以濺射出的粒子是有方向性的。
用途:利用它可使他種基體材料表面獲得金屬、合金或電介質(zhì)薄膜。適用于制造薄膜集成電路、片式引線器件和半導(dǎo)體器件等用。
方法:濺射薄膜通常是在惰性氣體(如氬)的等離子體中制取。
特點(diǎn):采用濺射工藝具有基體溫度低,薄膜質(zhì)純,組織均勻密實(shí),牢固性和重現(xiàn)性好等優(yōu)點(diǎn)。
沒(méi)有上一條
下一條:美國(guó)商務(wù)部終裁結(jié)果出爐 中國(guó)多晶硅出口被